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高加速高温高湿偏置/无偏置寿命测试

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高加速高温高湿偏置/无偏置寿命测试(HAST/UHAST)测试介绍

  • 高加速高温高湿偏置
    无偏置寿命测试
    (HAST/UHAST)

  • 高温高湿环境的可靠性评估、半导体内部金属要素的腐蚀、迁移(Migration)耐性评估

测试介绍

高加速应力测试(Highly Accelerated Stress Test,简称HAST)是为了完善温湿度偏压测试(Temperature Humidity Bias Test,简称THB)的长时间测试继而被开发出的一款测试。THB测试时长1000小时,反之HAST可以在96 - 264小时内得出结果。因此,近年来HAST测试被广泛使用。和THB一样,HAST加速了die的metal line和thin film resistor腐蚀。在HAST测试前需进行预处理(Precondition),条件温度130°C,温度85%,时间为96h; 温度110°C,湿度85%,时间为264h。

适用技术

电子产品暴露在最常见的环境为高温、高湿的环境中工作的状态。半导体内部的金属要素一旦密封不好,可能会发生腐蚀或迁移,因此可以通过THB测试来评估相应不良机制的耐性。




DATA EXAMPLE

应力最大化的偏压条件

01. 功耗(Power dissipation)最低化,水分充分停留于Die表面;

02. 针对于交叉的Pin,尽可能加相反的偏压(low voltage和high voltage);

03. Die metallization之间的电位差尽可能达到最大;

03. 在可控的功耗(Power dissipation)范围内,工作电压(Operating Voltage) 等级最大化。

参考规范
高加速温度湿度应力测试 HAST
JESD22-A110E.01:2021AEC-Q100-REV-J:2023;Table 2,Test group A2,HAST
AEC-Q101-Rev-E:2021 Table 2,Test group A2,HASTAEC-Q104-Rev:2017;Table 1,Test group A2,HAST
AEC-Q006-Rev-A:2016;Table 3aAEC-Q006-Rev-A:2016;Table 3b
加速耐湿性无偏置高加速温度湿度应力测试 u_HAST
JESD22-A118B.01:2021AEC-Q100-REV-J:2023;Table 2,Test group A3,UHAST
AEC-Q101-Rev-E:2021;Table 2,Test group A3,UHASTAEC-Q104-Rev:2017;Table 1,Test group A3,UHAST